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JS-1600小型離子濺射儀
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LX-S10-BLP1KW小功率冷水機
LX-S12-BHP1.2KW冷卻循環(huán)水機
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關(guān)于我們

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南京舜儀實驗設(shè)備有限公司是由南京和同創(chuàng)業(yè)科技有限責(zé)任公司變更而來，擁有“舜儀”和“SAINTINS”等注冊商標(biāo)。公司致力于等離子體相關(guān)產(chǎn)品的開發(fā)，目前主要生產(chǎn)小型離子濺射和小型磁控濺射，獲得客戶廣泛認(rèn)可。隨著對行業(yè)的不斷深入，期待能夠推出更多質(zhì)優(yōu)價廉的設(shè)備，為我們的儀器行業(yè)添磚加瓦。我們追求的目標(biāo)是為用戶提供滿意的產(chǎn)品及服務(wù)，以重諾守信，嚴(yán)謹(jǐn)求實，目光遠(yuǎn)大的行為為準(zhǔn)則?！八粗罚瑑x之質(zhì)”，對于新老客戶，我們將一如既往,恪守“服務(wù)至上”的承諾，與用戶保持長期的合作，為用戶提供放心的，滿意的的產(chǎn)品。我們將憑借高效、高質(zhì)的服務(wù)，高信任度的企業(yè)形象與廣大用戶共同發(fā)展！由于（北京和同創(chuàng)業(yè)科技有限責(zé)任公司）的業(yè)務(wù)調(diào)整，原有的產(chǎn)品將逐漸由（南京舜儀實驗設(shè)備有限公司）承接，所有服務(wù)和承諾不變。

公司簡介

聯(lián)系我們

技術(shù)文章

Technical articles

2025
9-17

薄膜制備小型磁控濺射儀的工作原理及設(shè)計要點
磁控濺射是利用磁場增強的濺射效應(yīng)來制備薄膜的一種物理氣相沉積（PVD）方法。其基本原理是通過電場將離子加速，撞擊靶材表面，導(dǎo)致靶材原子或分子濺射出來，并沉積到基...
2025
8-20

低溫濺射小型磁控濺射儀的操作注意事項
低溫濺射小型磁控濺射儀是一種物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，利用高能粒子轟擊靶材（一般是金屬或合金）表面，使靶材原子脫離并在基底表面沉積成薄膜。磁控濺射是在傳統(tǒng)濺射...
2025
7-16

桌面型小型離子濺射儀：高效薄膜沉積的新選擇
離子濺射是一種基于離子與固體表面碰撞的物理過程。當(dāng)高能離子（如氬離子）轟擊靶材表面時，靶材中的原子或分子受到?jīng)_擊力從表面彈出，產(chǎn)生濺射效應(yīng)。濺射出的原子或分子會...
2025
6-17

冷濺射小型磁控濺射儀具有良好的濺射過程控制能力
冷濺射小型磁控濺射儀是一種用于薄膜材料沉積的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體工業(yè)、光電器件制造等領(lǐng)域。具有高精度、高沉積速率、低溫沉積等優(yōu)點，并能夠在不加熱基材...
2025
5-21

桌面型小型離子濺射儀的設(shè)計特點詳細(xì)介紹
桌面型小型離子濺射儀是用于薄膜沉積、表面處理以及材料改性的一種先進(jìn)工具，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光學(xué)涂層、表面分析等領(lǐng)域。離子濺射技術(shù)通過利用離子束轟擊靶材，使靶...
2024
12-16

貴金屬靶材蒸發(fā)料加工蒸發(fā)薄膜的沉積與控制
貴金屬靶材蒸發(fā)料加工技術(shù)作為一種重要的薄膜制備技術(shù)，在多個行業(yè)中得到了廣泛應(yīng)用。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展，蒸發(fā)加工的精度和效率不斷提高，新的蒸發(fā)方法和設(shè)備層出不窮，貴...
2024
11-18

光纖鍍膜小型離子濺射儀適合實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境
光纖鍍膜小型離子濺射儀是一種用于精確鍍膜技術(shù)的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、材料科學(xué)等領(lǐng)域。其主要功能是通過離子濺射技術(shù)將薄膜材料沉積到光纖表面，以改善其光學(xué)性能...
2024
10-21

低溫濺射小型磁控濺射儀使用時的注意要點
低溫濺射小型磁控濺射儀是一種在材料科學(xué)和表面工程領(lǐng)域廣泛應(yīng)用的設(shè)備，主要用于制備薄膜、涂層以及納米結(jié)構(gòu)。工作原理基于磁控濺射技術(shù)。具體來說，當(dāng)真空腔室內(nèi)注入一定...

推薦產(chǎn)品

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